RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

所屬分類： CIF等離子刻蝕機(jī)

表面改性

CIF科研型等離子清洗機(jī) CIF微波等離子清洗機(jī) CIF透射電鏡樣品桿清洗機(jī) CIF掃描電鏡等離子清洗機(jī) CIF透射電鏡樣品桿存儲(chǔ)儀 CIF粉體等離子清洗機(jī) CIF轉(zhuǎn)筒等離子清洗機(jī) CIF手套箱專用等離子清洗機(jī) CIF等離子增強(qiáng)器 CIF中試生產(chǎn)型等離子清洗機(jī) CIF在線片式自動(dòng)真空等離子清洗機(jī) CIF大氣等離子清洗機(jī) CIF在線式大氣等離子清洗機(jī) CIF角膜塑形鏡專用等離子清洗系統(tǒng) CIF角膜塑形鏡涂層處理系統(tǒng) CIF紫外臭氧清洗機(jī) CIF臭氧中和器 CIF等離子體汽化接枝儀

表面去膠

CIF等離子去膠機(jī)

表面刻蝕

CIF等離子刻蝕機(jī)

表面涂層

CIF濺射鍍膜機(jī) CIF閃蒸成膜儀 CIF旋涂機(jī) CIF烤膠機(jī)

產(chǎn)品參數(shù)

CIF RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)基于反應(yīng)離子刻蝕技術(shù)，通過離子物理轟擊與活性自由基化學(xué)反應(yīng)的協(xié)同作用，實(shí)現(xiàn)對材料表面各向異性的高精度微結(jié)構(gòu)加工。該設(shè)備兼具高刻蝕速率與優(yōu)異的圖形保真度，在集成化與人性化設(shè)計(jì)的基礎(chǔ)上，進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)了低使用成本、高性價(jià)比、易維護(hù)、高效率、強(qiáng)工藝可控性與安全可靠性，非常適合大學(xué)、科研院所及微電子與半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)驗(yàn)室開展各類材料的刻蝕工藝研究。

屬性: 產(chǎn)品名稱; 型號(hào); 廠商性質(zhì); 訪問量; 更新時(shí)間

詳情: RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī); RIE200/200plus; 生產(chǎn)廠家; 4164次; 2024-03-18

產(chǎn)品詳情

CIF 推出 RIE 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)，采用 RIE 反應(yīng)離子誘導(dǎo)激發(fā)方式，實(shí)現(xiàn)對材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學(xué)、科研院所，微電等離子刻蝕機(jī)原理

反應(yīng)離子刻蝕機(jī)（又稱干法刻蝕機(jī)）是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵設(shè)備，其原理是利用等離子體對材料進(jìn)行選擇性去除，從而將掩膜圖形精確轉(zhuǎn)移到基材表面。

在真空反應(yīng)腔內(nèi)，通入特定的工藝氣體（如CF?、Cl?等），并通過射頻電源激發(fā)產(chǎn)生等離子體。等離子體中包含的活性自由基與材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，同時(shí)高能離子在電場引導(dǎo)下對表面進(jìn)行物理轟擊。這種物理與化學(xué)作用的協(xié)同效應(yīng)，可實(shí)現(xiàn)各向異性強(qiáng)、精度高的圖形刻蝕。

通過精確調(diào)控射頻功率、氣體組分與流量、腔室壓力、溫度及處理時(shí)間等參數(shù)，可實(shí)現(xiàn)對不同材料（如介質(zhì)、硅、金屬等）的刻蝕速率、選擇比與形貌的有效控制，滿足微納加工的多樣化需求。

刻蝕機(jī).png